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1. WO2020179102 - ANALYSIS DEVICE

Publication Number WO/2020/179102
Publication Date 10.09.2020
International Application No. PCT/JP2019/031802
International Filing Date 13.08.2019
IPC
G01N 23/2252 2018.01
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/-G01N17/178
22by measuring secondary emission from the material
225using electron or ion microprobes
2251using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy
2252Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis
H01J 37/24 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
24Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
H01J 37/252 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
Applicants
  • 株式会社島津製作所 SHIMADZU CORPORATION [JP]/[JP]
Inventors
  • 石川 丈寛 ISHIKAWA, Takehiro
Agents
  • 特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.
Priority Data
2019-03960505.03.2019JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) ANALYSIS DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE
(JA) 分析装置
Abstract
(EN)
In this invention, a charged particle beam irradiation device irradiates a charged particle beam onto a sample and detects a signal emitted from the sample. A first processing unit (10) is capable of communicating with a first input device (11) and analyzes the sample on the basis of a detection signal from the charged particle beam irradiation device and according to a signal from the first input device (11). A second processing unit (20) is capable of communicating with a second input device (21) and the first processing unit (10), generates a sample observation image from the detection signal from the charged particle beam irradiation device, and controls the charged particle beam irradiation device according to the signal from the second input device (21). The second input device (21) includes a pointing device. The second processing unit (20) converts input made through operation of the pointing device into a control signal for the charged particle beam irradiation device.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif d'irradiation par faisceau de particules chargées qui irradie un faisceau de particules chargées sur un échantillon et détecte un signal émis par l'échantillon. Une première unité de traitement (10) permet de communiquer avec un premier dispositif d'entrée (11) et analyse l'échantillon en fonction d'un signal de détection provenant du dispositif d'irradiation par faisceau de particules chargées et en fonction d'un signal provenant du premier dispositif d'entrée (11). Une seconde unité de traitement (20) permet de communiquer avec un second dispositif d'entrée (21) et la première unité de traitement (10), génère une image d'observation d'échantillon à partir du signal de détection provenant du dispositif d'irradiation par faisceau de particules chargées, et commande le dispositif d'irradiation par faisceau de particules chargées en fonction du signal provenant du second dispositif d'entrée (21). Le second dispositif d'entrée (21) comprend un dispositif de pointage. La seconde unité de traitement (20) convertit une entrée effectuée par l'intermédiaire d'une opération du dispositif de pointage en un signal de commande destiné au dispositif d'irradiation par faisceau de particules chargées.
(JA)
荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビームを試料に照射し、試料から放出される信号を検出するように構成される。第1処理部(10)は、第1入力機器(11)と通信可能に構成され、第1入力機器(11)からの信号に応じて、荷電粒子ビーム照射装置の検出信号に基づいて試料を分析する。第2処理部(20)は、第2入力機器(21)および第1処理部(10)と通信可能に構成され、荷電粒子ビーム照射装置の検出信号から試料の観察画像を生成するとともに、第2入力機器(21)からの信号に応じて荷電粒子ビーム照射装置を制御する。第2入力機器(21)は、ポインティングデバイスを含む。第2処理部(20)は、ポインティングデバイスに対する操作入力を荷電粒子ビーム照射装置の制御信号に変換する。
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