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1. WO2020125793 - DEVICE, METHOD AND PHOTOLITHOGRAPHY MACHINE FOR DETECTING WAVE ABERRATION OF PROJECTION OBJECTIVE LENS

Publication Number WO/2020/125793
Publication Date 25.06.2020
International Application No. PCT/CN2019/127371
International Filing Date 23.12.2019
IPC
G01M 11/02 2006.01
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02Testing optical properties
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
Applicants
  • 上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventors
  • 马明英 MA, Mingying
  • 姜雪林 JIANG, Xuelin
  • 夏建培 XIA, Jianpei
Agents
  • 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY
Priority Data
201811573750.221.12.2018CN
Publication Language Chinese (ZH)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) DEVICE, METHOD AND PHOTOLITHOGRAPHY MACHINE FOR DETECTING WAVE ABERRATION OF PROJECTION OBJECTIVE LENS
(FR) DISPOSITIF, PROCÉDÉ ET MACHINE DE PHOTOLITHOGRAPHIE POUR DÉTECTER UNE ABERRATION D'ONDE D'UN OBJECTIF DE PROJECTION
(ZH) 投影物镜波像差检测装置及方法、光刻机
Abstract
(EN)
Provided is a device for detecting wave aberration of projection objective lens, comprising: a light source for providing detection beam; an object grating marking unit (100) for splitting the detection beam, to obtain a first beam (11) in a first direction and a second beam (12) in a second direction; a beam splitting and collimating unit for splitting and collimating the light beam passing through a projection objective unit (200); a diffraction unit (400) for diffracting the light beam passing through the beam splitting and collimating unit, to obtain interference images in two directions; a workpiece table (600) for driving the object grating marking unit (100), the beam splitting and collimating unit, the diffraction unit (400) and an imaging detection unit (500) to perform a one way stepping along a straight line in a predetermined direction between the first direction and the second direction, and simultaneously collecting the intensity of the interference image at each stepping of the first beam (11) and the second beam (12), to obtain the wave aberration in the first direction and the second direction respectively, thus the detection time is shortened, and the detection accuracy of the wave aberration is improved. Provided are also a method for detecting wave aberration of projection objective lens and a photolithography machine.
(FR)
L'invention concerne un dispositif pour détecter une aberration d'onde d'objectif de projection, comprenant : une source de lumière pour fournir un faisceau de détection ; une unité de marquage de réseau d'objet (100) pour diviser le faisceau de détection, pour obtenir un premier faisceau (11) dans une première direction et un second faisceau (12) dans une seconde direction ; une unité de division et de collimation de faisceau pour diviser et collimater le faisceau de lumière traversant une unité d'objectif de projection (200) ; une unité de diffraction (400) pour diffracter le faisceau de lumière traversant l'unité de division et de collimation de faisceau, pour obtenir des images d'interférence dans deux directions ; une table de pièce à travailler (600) pour entraîner l'unité de marquage de réseau d'objet (100), l'unité de division et de collimation de faisceau, l'unité de diffraction (400) et une unité de détection d'imagerie (500) pour réaliser un pas-à-pas unidirectionnel le long d'une ligne droite dans une direction prédéterminée entre la première direction et la seconde direction, et collecter simultanément l'intensité de l'image d'interférence à chaque pas-à-pas du premier faisceau (11) et du second faisceau (12), pour obtenir l'aberration d'onde dans la première direction et la seconde direction respectivement, ainsi le temps de détection est raccourci, et la précision de détection de l'aberration d'onde est améliorée. L'invention concerne également un procédé de détection d'aberration d'onde d'objectif de projection et une machine de photolithographie.
(ZH)
一种投影物镜波像差检测装置,包括:光源,用于提供检测光束;物面光栅标记单元(100),用于对检测光束进行分光,以得到第一方向上的第一光束(11)和第二方向上的第二光束(12);分光准直单元,用于将经过投影物镜单元(200)的光束进行分光及准直处理;衍射单元(400),用于将经过分光准直单元的光束进行衍射处理,以得到两个方向的干涉图像;工件台(600),用于带动物面光栅标记单元(100)、分光准直单元、衍射单元(400)和成像探测单元(500)在第一方向和第二方向之间的预定方向上沿直线单向步进,可以同时采集第一光束(11)和第二光束(12)每次步进时的干涉图像的光强,以分别获得第一方向和第二方向的波像差,从而缩短检测时间,提高波像差的检测精度。还公开了一种投影物镜波像差检测方法和一种光刻机。
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